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标题:张江实验室(中国科学院上海高等研究院)硅光子市级重大专项200mm硅光中试平台拓展和成套工艺开发注入薄膜等设备采购项目重新招标(2018)中标公告7月27日
上海国际招标有限公司受中国科学院上海高等研究院的委托,就“张江实验室(中国科学院上海高等研究院)硅光子市级重大专项200mm硅光中试平台拓展和成套工艺开发注入薄膜等设备采购项目重新招标”项目(项目编号:18101808)组织采购,评标工作已经结束,中标结果如下: 《==招标投标法 请准守国家相关法律法规==来源:十环招标网==》
《==招标投标法 第三十七条 与投标人有利害关系的人不得进入相关项目的评标委员会;已经进入的应当更换。评标委员会成员的名单在中标结果确定前应当保密。==来源:十环招标网==》
一、项目信息 项目编号:18101808 项目名称:张江实验室(中国科学院上海高等研究院)硅光子市级重大专项200mm硅光中试平台拓展和成套工艺开发注入薄膜等设备采购项目重新招标 项目联系人:赵丽莉 联系方式:021-62791919*135 二、采购单位信息 采购单位名称:中国科学院上海高等研究院 采购单位地址:上海市浦东新区海科路99号 采购单位联系方式:黄雨辰、021-20325063 三、项目用途、简要技术要求及合同履行日期: 序号 | 货物名称 | 简要技术说明 | 数量 | 交货期 |
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《==招标投标法 第三十七条由招标人从国务院有关部门或者省、自治区、直辖市人民政府有关部门提供的专家名册或者招标代理机构的专家库内的相关专业的专家名单中确定;==来源:十环网==》
1 | 《==招标投标法 第四十八条 中标人按照合同约定或者经招标人同意,可以将中标项目的部分非主体、非关键性工作分包给他人完成。接受分包的人应当具备相应的资格条件,并不得再次分包。==来源:十环网==》
高密度等离子介质材料生长设备HDP | 二氧化硅沉积速率:3800~4600Å/min 二氧化硅刻蚀速率:800~1400Å/min 二氧化硅膜厚片内非均匀性:<3% 二氧化硅膜厚片与片非均匀性:<2% 刻蚀/沉积比率:0.23~0.28 二氧化硅折射率:1.460+/-0.01 二氧化硅膜应力:-1.1+/-0.3E09dynes/cm2 | 1台 | 2018年10月31日 | 2 | 中束流离子注入设备MI implant | 晶圆尺寸:200毫米 离子注入能量:5-810KeV 掺杂剂量:1E11 to 5E16 ions/cm2 掺杂源:硼(11B+, 49BF2+),砷(75As+),磷 (31P+) 晶圆倾斜角度:0至45度 晶圆旋转:0至360度 | 1台 | 2018年10月31日 | 3 | 介质膜沉积设备PEOX (SiO2, SiN films deposition) | 反应腔:单片单面 晶圆尺寸:200毫米 二氧化硅膜沉积速率:>每分钟6000埃 二氧化硅膜沉积膜厚非均匀性:<1.5%(1sigma/均值) 二氧化硅膜折射率:1.44-1.46 二氧化硅膜应力:-100MPa 至 -300MPa 二氧化硅膜沉积膜厚范围:100埃至3微米 氮化硅膜沉积速率:>每分钟6000埃 氮化硅膜沉积膜厚非均匀性:<1.5%(1sigma/均值) 氮化硅膜折射率:1.99-2.10 氮化硅膜应力:+150MPa至+350MPa 氮化硅膜沉积膜厚范围:100埃至1微米 平均无故障率:>90% | 1台 | 2018年10月31日 | 四、采购代理机构信息 采购代理机构全称:上海国际招标有限公司 采购代理机构地址:中国上海延安西路358号美丽园大厦14、20楼 采购代理机构联系方式:赵丽莉、86-21-62791919×135 五、中标信息 招标公告日期:2018年06月28日 中标日期:2018年07月24日 总中标金额:3595.467 万元(人民币) 中标供应商名称、联系地址及中标金额: | 序号 | 中标供应商名称 | 中标供应商联系地址 | 中标金额(万元) | | 1 | Applied Materials South East Asia Pte. Ltd. | 上海张江高科技园区张东路1388号22幢 | 3595.467000 |
本项目招标代理费总金额:13.0 万元(人民币) 本项目招标代理费收费标准: 根据国家发改委1980号标准收费下浮40%。 评审专家名单: 叶军安、毛妞、裴加军、谢燕、李斌 中标标的名称、规格型号、数量、单价、服务要求: 序号 货物名称 数量 交货期 价格 1 高密度等离子介质材料生长设备HDP 1台 14weeks after down payment USD1,750,000.00 2 中束流离子注入设备MI implant 1台 24weeks after down payment USD1,900,000.00 3 介质膜沉积设备PEOX (SiO2, SiN films deposition) 1台 14weeks after down payment USD1,650,000.00 六、其它补充事宜
来源:上海中国科学院上海高等研究院
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标签: 中标 项目 招标 设备 上海
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